1. 什么是光洁度 “20/10”？

这是MIL-PRF-13830B等光学标准中使用的“划痕-麻点”光洁度标准。它用于描述光学元件（如透镜、棱镜、激光镜）表面的宏观和亚微观缺陷。

• 第一个数字（20）：代表“划痕”等级。它是一个比较值，指的是在特定光照和观测条件下，将待测表面的划痕与一套标准划痕样板进行对比得到的编号。数字本身不是划痕的实际宽度或深度。20号划痕已经非常轻微，通常需要良好的光照和特定角度才能观察到。

• 第二个数字（10）：代表“麻点”等级。麻点指表面上的小坑或点状缺陷。数字“10”表示最大允许麻点的直径（单位为微米，µm）。所以“10”代表麻点直径不超过10微米。同时，标准还会限制在规定面积内麻点的总数量和分布。

 “20/10”意味着该表面在标准观测条件下，划痕严重度不超过20号样板，并且没有任何直径超过10微米的麻点。这是一个非常高的光学表面质量，常用于高性能激光系统、精密光学和某些高端半导体光刻机中的光学部件。

2. 什么是表面粗糙度（Ra， Rq）？

表面粗糙度是通过轮廓仪（接触式或光学式）实际测量得到的表面微观起伏的算术平均偏差。

• Ra（算术平均粗糙度）：最常用的参数，表示轮廓线上各点至中线的绝对距离的平均值。

• Rq（均方根粗糙度）：对轮廓起伏更敏感的数学平均值。

• 单位：通常是纳米（nm）或埃（Å），1 nm = 10 Å。

粗糙度描述的是表面的纹理纹理，而不是个别的划痕或麻点。

3. “20/10” 光洁度 相当于 多少粗糙度？

这是一个经验对应关系，而非精确换算。因为：

• 测量对象不同：光洁度看的是离散缺陷；粗糙度看的是连续轮廓的平均统计。

• 评估方式不同：一个是目视对比，一个是仪器测量。

然而，在高端光学和半导体领域，要达到“20/10”这样的高光洁度，其表面粗糙度也必然控制得极好。根据行业经验：

• 对于传统精密光学抛光表面，如果达到“20/10”光洁度，其 Ra 粗糙度通常在 1 nm（10 Å） 到5 nm（50 Å） 之间。这已经像镜子一样光滑。

• 对于超高精度应用（如极紫外光刻、激光陀螺仪），光洁度可能要求达到“10/5”甚至更高，其对应的 Ra 粗糙度可以低于 0.5 nm （5 Å），接近原子级平整。

重要提示：对于硅片本身，半导体行业几乎不使用“20/10”这种光学光洁度标准。硅片有自己的一套严苛的表面质量标准，主要关注：

• 表面粗糙度：通常要求极低。对于先进的逻辑芯片或存储芯片用硅片，Ra 要求小于 0.1 nm（1 Å）的情况也很常见。

• 局部平整度：纳米级的微小区域起伏。

• 表面颗粒和金属污染：每片硅片上允许的粒径大于一定尺寸（如20nm）的颗粒数有严格限制。

• 晶体原生凹坑、雾度等缺陷。

结论与对比表格

简单来说： 如果你在光学元件的图纸上看到“光洁度：20/10”，可以理解为其表面像高级相机镜头一样，肉眼几乎看不到瑕疵，并且其微观粗糙度大概在几个纳米的水平。

但是，如果是关于半导体硅片的表面，那么应该直接查找其粗糙度（Ra/Rq）规格，而不是使用光学光洁度标准。硅片的表面质量远比“20/10”所描述的要精细得多。